Влияние кинетических эффектов на взаимодействие H-волны с тонким металлическим слоем в случае зависимости коэффициентов зеркальности электронов на поверхности металла от угла отражения

Язык труда и переводы:
УДК:
533.951
Дата публикации:
20 ноября 2022, 02:36
Категория:
Перспективные направления исследования необратимых физических процессов
Авторы
Аннотация:
Рассмотрено падение электромагнитной H-волны на тонкий металлический слой под углом θ с учетом зависимости коэффициентов зеркальности на поверхностях тонкого слоя q1 и q2 от угла отражения электронов. На основе решения кинетического уравнения Больцмана для электронов в металле получены выражения для коэффициентов отражения R, поглощения A и прохождения T–H-волны с учетом влияния механизма поверхностного рассеяния электронов.
Ключевые слова:
электромагнитная волна, тонкий металлический слой, проводимость, коэффициент отражения
Основной текст труда

Электромагнитные свойства тонких металлических плёнок могут существенно отличаться от свойств массивных образцов [1–9]. В рассматриваемом случае толщина тонкого металлического слоя a  не превышает толщины скин-слоя \delta и сравнима со средней длиной свободного пробега электронов в металле \Lambda . Известно, что толщина скин-слоя сильно зависит от частоты внешнего поля: по мере роста частоты \delta уменьшается. Минимальная толщина скин-слоя \delta в инфракрасном диапазоне длин волн для типичных металлов составляет порядка 100 нм [10]. Таким образом, можно рассматривать любые частоты поля, при условии, что толщина металлического слоя много меньше 100 нм. Поскольку в рассматриваемом случае a  < \delta , то скин-эффект не учитывается. Поскольку толщина тонкого слоя много больше длины волны де Бройля, которая в типичных металлах составляет величину порядка межатомного расстояния (~ 0.3 нм), то квантовыми эффектами мы можем пренебречь.

Рассмотрим тонкий металлической слой толщиной a , коэффициентами зеркальности q_{1}  и q_{2} при отражении электронов, соответственно, от верхней и нижней поверхности этого слоя, в случае падения на него электромагнитной H-волны под углом \theta . Поскольку вектор электрического поля электромагнитной волны параллелен поверхности тонкого слоя, то такая волна носит название H-волны. Электрическое поле электромагнитной волны параллельно координатной оси Y , координатная ось X  направлена вглубь тонкого металлического слоя. Уточним, что электрическое поле \mathbf {E}   однородное и периодическое по времени:

\mathbf {E} =\mathbf {E} _{0}exp(-i\omega t),

здесь \omega – частота электрического поля.

Поведение электромагнитного поля внутри тонкого металлического слоя можно описать следующей системой уравнений [11]:

\left\{{\begin{matrix}rot(\mathbf {H} )=\mathbf {j} +\varepsilon \varepsilon _{0}{\frac {\partial \mathbf {E} }{\partial t}};\\rot(\mathbf {E} )=-\mu \mu _{0}{\frac {\partial \mathbf {H} }{\partial t}},\end{matrix}}\right.

где  \mathbf {j} — плотность электрического тока,  \varepsilon и \varepsilon _{0} – диэлектрическая проницаемость среды и электрическая постоянная; \mu и \mu _{0} – магнитная проницаемость среды и магнитная постоянная. 

Данную систему уравнений в СИ можно переписать в следующем виде:

\left\{{\begin{matrix}{\frac {\partial E_{y}}{\partial x}}-\mu \mu _{0}i\omega H_{z}=0;\\{\frac {\partial H_{z}}{\partial x}}+\varepsilon \varepsilon _{0}i\omega (sin^{2}(\theta )-1)E_{y}=-j_{y}.\end{matrix}}\right.

Взаимодействие электромагнитной H-волны с тонким металлическим слоем характеризуется коэффициентами: отражения R , прохождения T и поглощения A . Электрическое и магнитное будут очень мало меняться на расстояниях меньших глубины скин-слоя ( a < \delta ). Пусть длина волны падающего излучения существенно превосходит толщину слоя a . Тогда выражения для коэффициентов R , T , A примут вид

{\begin{matrix}T=\left|{\frac {cos(\theta )}{cos(\theta )+a\sigma _{a}}}\right|^{2};\\R=\left|{\frac {a\sigma _{a}}{cos(\theta )+a\sigma _{a}}}\right|^{2};\\A=1-T-R,\end{matrix}}

причем \sigma _{a} было получено ранее в работе [12].

Учтем, что коэффициенты зеркальности поверхностей тонкого слоя могут быть различны [13]. Тогда в нашем случае коэффициенты зеркальностей будут иметь вид: 

{\begin{matrix}q_{1}=q_{01}+(1-q_{01})exp(-b_{1}cos(\theta )-b_{2}cos^{2}(\theta ));\\q_{2}=q_{02}+(1-q_{02})exp(-b_{1}cos(\theta )-b_{2}cos^{2}(\theta )),\end{matrix}}

здесь q_{01} и q_{02} — значение коэффициентов зеркальности поверхностей тонкого слоя; b_{1} и b_{2} — некоторые положительные коэффициенты (при b_{1} >> 1 и b_{2} >> 1  получаем модель Фукса, а при  b_{2} >> b_{1} – модель Соффера). 

Рассмотрим поведение коэффициента отражения R  в случае медного слоя толщины a . Для дальнейших расчетов будем использовать следующие параметры меди [14]: скорость Ферми  v_{F} = 1,57 · 106 м/с, удельная проводимость \sigma _{0} = 5,95 · 107 Ом–1, электронное время релаксации \tau = 8,02 · 10–14 с.

Зависимость коэффициента отражения R от толщины тонкого металлического слоя a

На рисунке представлена зависимость коэффициента отражения R от толщины тонкого металлического слоя a . Для всех кривых \omega = 0, \theta = 60°, b_{1} = b_{2} = 10, \xi = 1. Кривая 1 – q_{01} = 1, q_{02} = 1; кривая 2 – q_{01} = 0,5, q_{02} = 0,8; кривая 3 – q_{01} = 0,3, q_{02} = 0,5; кривая 4 – q_{01} = 0, q_{02} = 0. Видно, что вариация коэффициентов зеркальности тонкого металлического слоя оказывает существенное влияние на поведение коэффициента отражения R

Литература
  1. Ващенко Е.В., Гладских И.А., Пржибельский С.Г., Хромов В.В., Вартанян Т.А. Проводимость и фотопроводимость гранулированной пленки серебра на сапфировой подложке. Оптический журнал, 2013, т. 80, № 2, с. 3–10.
  2. Котликов Е.Н., Иванов В.А., Прокашев В.Н. и др. Исследование оптических свойств пленок германия в средней ИК области спектра. Оптика и спектроскопия, 2010, т. 108, № 6, с. 1003–1006.
  3. Каминский В.В., Степанов Н.Н., Казанин М.М., Молодых А.А., Соловьев С.М. Электропроводность и зонная структура тонких поликристаллических пленок EuS. Физика твердого тела, 2012, т. 55, № 5, с. 991–994.
  4. Котликов Е.Н., Тропин А.Н. Оптические и структурные свойства пленок ZnS0, 5Se0,5 и интерференционные фильтры на их основе. Оптический журнал, 2020, т. 87, № 1, с. 56–61.
  5. Вартанян Т.А., Леонов Н.Б., Пржибельский С.Г. Фотоэлектронная эмиссия из островковых металлических пленок натрия при возбуждении локализованных плазмонных резонансов. ЖЭТФ, 2009, т. 136, №. 1, с. 163–168.
  6. Jones W.E., Kliewer K.L., Fuchs R. Nonlocal Theory of the Optical Properties of Thin Metallic Films. Phys Rev, 1969, vol. 178, p. 1201–1203.
  7. Королев Ф.А., Гриднев В.И. Пропускание электромагнитных волн тонкими пленками серебра. Радиотехника и электроника, 1965, с. 1718–1721.
  8. Бежанов С.Г., Ионин А.А., Канавин А.П. и др. Отражение пробного импульса и термоэмиссия электронов при нагреве пленки алюминия фемтосекундным импульсом лазерного излучения. ЖЭТФ, 2015, т. 147, № 6, с. 1087–1097.
  9. Паредес-Хуарес А., Диас-Монхе С., Макаров М.Н., Перес-Родригес Ф. Нелокальные эффекты в электродинамике металлических пластин. Письма в ЖЭТФ, 2009, т. 90, № 9, с. 687–688.
  10. Лифшиц Е.М., Питаевский Л.П. Теоретическая физика. Т.Х. Физическая кинетика. Москва, ФИЗМАТЛИТ, 2002, 536 с.
  11. Пеннер Д.И., Угаров В.А. Электродинамика и специальная теория относи-тельности. Москва, Просвещение, 1980, 271 с.
  12. Уткин А.И., Завитаев Э.В., Юшканов А.А. Расчет электрической проводимости тонкого металлического слоя в случае различных коэффициентов зеркальности его поверхностей. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2016, № 9, с. 85–91.
  13. Каримов Ф.А., Юшканов А.А. Зеркально-диффузные граничные условия для электронов на поверхности металла с учетом зависимости от угла падения. Вестник МГОУ. Физика-математика, 2020, № 1, с. 50–56.
  14. Ашкрофт Н., Мермин Н. Физика твердого тела. Т. 1. Москва, Мир, 1979, 458 с.
Ваш браузер устарел и не обеспечивает полноценную и безопасную работу с сайтом.
Установите актуальную версию вашего браузера или одну из современных альтернатив.